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爱思强向亚洲重要客户交付PRODOS Gen3.5生产系统
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爱思强向亚洲重要客户交付PRODOS Gen3.5生产系统

日期:2020-07-17 15:25点击数:

  爱思强向亚洲重要客户交付PRODOS Gen3.5生产系统

用于有机电子生产的新型PVPD™平台

   爱思强股份有限公司今(21)日宣布,向一亚洲重要客户交付一套基于爱思强专有的近耦合喷淋头(CCS)®技术的PRODOS Gen3.5高分子聚合气相沉积(PVPD™)系统。客户将利用该生产型设备的有机高分子薄膜沉积能力,进行新型柔性电子设备的生产。爱思强的当地服务团队将于未来数周内,在该客户的厂房中安装及调试此新沉积系统。

   爱思强业务发展总监柯永明(Juergen Kreis)说:在我们前不久推出新型PRODOS-200 研发平台的基础上,这套全新PRODOS Gen3.5系统,是专门应客户在Gen3.5基板上(基板尺寸650x750mm2)的生产要求而设计的。研发平台的配置较为灵活,用在200x200 mm²的基板上进行新工艺开发,从而实现PRODOS Gen3.5在工业生产的所要求的尺寸上进行高分子聚合特殊工艺。 系统结合了载气增强沉积以及近耦合喷淋头®技术,它充分说明了PVPD™优越的可扩展性。

   爱思强首席运营官Bernd Schulte博士补充说:很多柔性电子产品的主要企业已经选择安装爱思强PVPD™系统,以满足其高标准的有机底板生产工艺需求,这次爱思强的关键技术能够获得这间知名企业的青睐,令我们倍觉荣幸。柔性电子行业目前仍然处于起步阶段,未来的前景非常广阔,并为我们的客户提供开发新应用的潜力,例如柔性的平板显示屏,将具有轻盈、耐用、低能耗、色彩鲜明且阅读舒适等优点。

   爱思强高分子聚合气相沉积(PVPD™)技术是一个控制沉积并在原位生成聚合物薄膜的气相沉积平台。

   与通常基于溶液的传统高分子聚合工艺相比,PVPD™工艺是一种全干燥的沉积工艺,拥有众多独特优势,可控制薄膜层属性,能达到很高的膜层外形一致性,可在沉积过程中改变膜层组分(例如,可调控的复合沉积)及提升生产流程效率,借助此PVPD设备可大大推动薄膜制造工艺的发展。